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霍爾槽試驗(yàn)出錯(cuò)原因分析-仁昌科技

發(fā)布時(shí)間:2020.04.15 14:50 作者:*** 文章來(lái)源:表面工程與再制造
點(diǎn)擊次數(shù):1755

霍爾槽試驗(yàn)是電鍍工程技術(shù)人員和現(xiàn)場(chǎng)管理人員經(jīng)常用到的試驗(yàn)方法,也是技術(shù)報(bào)告或技術(shù)論文中經(jīng)常用到的方法。

由于霍爾槽試驗(yàn)試片的狀態(tài)涉及對(duì)工藝性能的評(píng)價(jià),有時(shí)是對(duì)產(chǎn)品質(zhì)量的評(píng)價(jià),這就有一個(gè)評(píng)價(jià)的公正和公平的問(wèn)題。只有當(dāng)將試片的結(jié)果與標(biāo)準(zhǔn)加以比較,或者大家都按同一標(biāo)準(zhǔn)進(jìn)行試驗(yàn),比較和評(píng)價(jià)才是可信的,也才是公平和公正的。

目前,在提供霍爾槽試驗(yàn)結(jié)果時(shí),都是以大家用了同樣的霍爾槽試驗(yàn)方法為前提的,并且默認(rèn)這些試驗(yàn)采用了標(biāo)準(zhǔn)的霍爾槽在標(biāo)準(zhǔn)的狀態(tài)下進(jìn)行了試驗(yàn),但是,這種認(rèn)可是值得商討的。

因?yàn)楹芏嘣囼?yàn)人員在做霍爾槽試驗(yàn)時(shí),對(duì)有關(guān)參數(shù)沒(méi)有加以認(rèn)真地校正或記錄,也沒(méi)有按霍爾槽試驗(yàn)規(guī)范進(jìn)行操作,所得的參數(shù)難免會(huì)產(chǎn)生偏差,從而給出錯(cuò)誤的信息。

最常見(jiàn)的錯(cuò)誤有以下幾種:

1陽(yáng)極厚度超過(guò)5mm


很多霍爾槽試驗(yàn)的陽(yáng)極沒(méi)有采用標(biāo)準(zhǔn)的陽(yáng)極,而是從鍍槽陽(yáng)極上鋸下一塊來(lái)代用,這些陽(yáng)極通常都比較厚,有時(shí)厚達(dá)10mm,這種不規(guī)范的陽(yáng)極相當(dāng)于霍爾槽的尺寸發(fā)生了一點(diǎn)改變,從而使高電流區(qū)情況變得更差而低電流區(qū)的情況會(huì)好一些,這對(duì)了解鍍槽真實(shí)情況是不利的。

在沒(méi)有標(biāo)準(zhǔn)試片的場(chǎng)合,寧愿使用不溶性陽(yáng)極(例如不銹鋼片或鈦片等)制成標(biāo)準(zhǔn)陽(yáng)極,每次取樣只做一次試驗(yàn)會(huì)很準(zhǔn),對(duì)主鹽較多的鍍種,最多只做2次試驗(yàn)。

2同一鍍液所做的試片超過(guò)3片以上

標(biāo)準(zhǔn)的霍爾槽試驗(yàn)取一次鍍液,只應(yīng)做1~2片,因?yàn)樽龆鄷r(shí),鍍液濃度會(huì)因得不到及時(shí)補(bǔ)充而變化,結(jié)果就沒(méi)有了可比性或重現(xiàn)性。

除非是自己開(kāi)發(fā)過(guò)程中,要試驗(yàn)補(bǔ)加規(guī)律或調(diào)整方法,可以邊往試驗(yàn)液中加入相關(guān)成分邊做好記錄,才可以多做幾片,但提供這種試驗(yàn)結(jié)果時(shí),要有記錄參數(shù)同時(shí)提供給讀者。而很多做霍爾槽試驗(yàn)者會(huì)一次取樣做三 四次試片;有時(shí)甚至更多,后幾片的鍍液濃度已經(jīng)變化,結(jié)果就難以比較。

3試驗(yàn)條件的記錄不完善

要使霍爾槽試驗(yàn)有可比性,要將試驗(yàn)時(shí)的工藝條件與結(jié)果一起報(bào)告,但是有不少關(guān)于霍爾槽的試驗(yàn)結(jié)果沒(méi)有提供完善的工藝條件,不是沒(méi)有溫度指標(biāo),就是沒(méi)有提供所用的鍍液配方,或者沒(méi)有指出是否有攪拌鍍液或攪拌的方法,這樣使所做的試片結(jié)果無(wú)法與其他相同的工藝進(jìn)行比較。

4采用了不標(biāo)準(zhǔn)的霍爾槽或電源

有些試驗(yàn)者所用的是不標(biāo)準(zhǔn)的霍爾槽,這有兩種情況,一是自己用有機(jī)玻璃或其他塑料做的,并且是手工制作,尺寸不精確,幾何形狀不符合霍爾槽的結(jié)構(gòu)要求。另一種是所購(gòu)的霍爾槽的制作商生產(chǎn)的霍爾槽不夠標(biāo)準(zhǔn),比如用拼裝法做的出現(xiàn)裝配誤差超標(biāo),模壓法的模具尺寸不符合要求等,所以完整的霍爾槽試驗(yàn)報(bào)告應(yīng)該包括對(duì)所用霍爾槽的描述,例如“采用自制的霍爾槽”。

試驗(yàn)電源對(duì)霍爾槽試驗(yàn)也是很重要的,要采用平穩(wěn)直流電源,對(duì)于自己開(kāi)發(fā)對(duì)比的試驗(yàn),一直使用同一種電源問(wèn)題不大,但是要提供別人對(duì)比的試驗(yàn)時(shí),一定要指明所用的電源參數(shù),是單相全波還是半波,以及濾波條件等,因?yàn)檫@對(duì)試驗(yàn)結(jié)果有很大影響。很多技術(shù)服務(wù)人員在自己的實(shí)驗(yàn)室做好的試驗(yàn),拿到用戶那里又通不過(guò),很少想到實(shí)際上有時(shí)是電源在作怪。

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